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650nm帶通濾光片

深圳納宏光電技術(shù)有限公司(NMOT)專業(yè)生產(chǎn)的帶通濾光片采用全介質(zhì)硬膜鍍膜的技術(shù)和介質(zhì)干涉的原理,在凸顯窄帶濾光片特性的基礎(chǔ)上,光學(xué)性能與基片厚度無關(guān),納宏光電生產(chǎn)的窄帶濾光片更便于內(nèi)置儀器成像系統(tǒng)里面。使之光學(xué)性能得以提升和有效應(yīng)用,采用特殊的光學(xué)材料基底,解決傳統(tǒng)意義上吸收型合成玻璃易發(fā)霧及光學(xué)性能不穩(wěn)定等問題,產(chǎn)品依據(jù)客戶的指標(biāo)需求予以生產(chǎn)制作。

  • 價格: 10元(參考)
  • 品牌: 納宏光電(NMOT)
  • 濾光片類型: 帶通濾光片(Band pass filter)

650nm帶通濾光片技術(shù)參數(shù):

 

中心波長:650+/-2nm

帶通濾光片入射角 :0°

半峰值帶寬 :50nm

峰值透過率 :>90%( 按客戶需求)

產(chǎn)品尺寸 :3mm-80mm(  可訂制  )

截止波長 :200nm-1100nm( 按客戶需求)

截止深度 :>OD4-OD6  UV-NIR

產(chǎn)品材質(zhì) :光學(xué)級別類玻璃( K9,BK7,B270,D263T,JGS1,顏色玻璃,浮法玻璃等 )

表面光潔度 :國標(biāo)三級,美軍標(biāo)60-40

650nm濾光片

真空離子電鍍法是目前光學(xué)行業(yè)使用比較多的濾光片鍍膜工藝工藝,物理氣相沉積術(shù)(PVD)屬于光學(xué)鍍膜最重要的工藝范疇。首先在真空鍍膜機(jī)中利用離子轟擊清洗濾光片待鍍膜基板表面,接著啟動蒸發(fā)源部分氣體在等離子體轟擊中離子化,并被預(yù)熱濾光片基板表面的負(fù)壓加速,因此,在層基板和部分新形成的金屬層連續(xù)被燒蝕的同時,汽化金屬層便生長在濾光片基板上。電子束蒸發(fā)技術(shù)相結(jié)合,可以得到較高的沉積率。

標(biāo)簽: 650nm濾光片

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