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什么是離子輔助沉積技術?
離子輔助沉積技術英文縮寫為：IAD，是一種真空蒸發為基礎的輔助沉積方法。真空蒸發鍍膜過程中沉積的原子或者分子在基片表面的有限遷移率形成柱狀的薄膜結構，所以在沉積的過程中對生長的薄膜利用離子源轟擊，講離子的動量傳給沉積的原子或分子，使沉積的分子或者原子的遷移率得到提高，從而抑制了柱狀結構的生長，使得光學介質薄膜的密度增加，光學性能進一步提高。
當前，離子輔助沉積技術（IAD）已經成為2018-04-10
離子輔助沉積技術英文縮寫為：IAD，是一種真空蒸發為基礎的輔助沉積方法。真空蒸發鍍膜過程中沉積的原子或者分子在基片表面的有限遷移率形成柱狀的薄膜結構，所以在沉積的過程中對生長的薄膜利用離子源轟擊，講離子的動量傳給沉積的原子或分子，使沉積的分子或者原子的遷移率得到提高，從而抑制了柱狀結構的生長，使得光學介質薄膜的密度增加，光學性能進一步提高。
當前，離子輔助沉積技術（IAD）已經成為
2018-04-10
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